TFZRJ 膏霜真空乳化成套设备

发布时间:2014-6-4 16:49:50    浏览次数:0次    


喷射式乳化均质器

TFZRJ 膏霜真空乳化成套设备

机器说明

本机系由巨大型高粘度物之混合均匀用的叶片搅拌器与微小型高速搅拌均匀用的强剪断式均质搅拌器组合成为一体。
搅拌器叶片四周附有刮板,利用该刮板可有效去除附着在锅壁上的物料,使物料搅拌更充分。
被刮取的处理液经过两套逆向搅拌进行的剪断、压缩、折叠等作用,受其搅拌、混合而向下流往容器下方的同质搅拌器能予作用的位置。
高剪切分散乳化就是高效、快速、均匀地将一个相或多个相分布到另一个连续相中,而在通常情况下各个相是互不相溶的。由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能,使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用,从而使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下,瞬间均匀精细的分散乳化,经过高频的循环往复,最终得到稳定的高品质产品。
诚如上述,由均质搅拌器与叶片搅拌器各自具有的特徵相辅相成,培增其效果,能够有效处理高粒度物的乳化与混合。


本机械其他特点

1、超高粘物(50,000C.P.S以上),天富推荐采用对应的高黏度乳化均质器。
2、原料可利用机器直接吸入槽内。
3、本机自带真空、液压、加热、冷却等功能。
4、乳化、搅拌、分散等可於短时间内完成。
5、慢速桨式搅拌及高速均质系统均有变频控制。
6、用户可选按钮控制或PLC触控屏系统。
7、与物件接触部分的材质为不锈钢SS316L,设备整体符合GMP规范。
8、搅拌在真空状态下的运行,可有效保证乳化效果。
9、设备配备CIP清洗装置,可方便利用用户自有的CIP清洗系统,对该设备进行清洁工作。

用途

食品、医药品、化妆品、化工原料。

优点

本机组采用上部同轴三重型搅拌器,液压升降开盖,快速均质搅拌器转速:0-3500r/min(变频调速)、慢速刮壁搅拌器转速:0-40r/min(变频调速)、均质器采用高剪切喷射式乳化搅拌机,慢速刮壁搅拌自动紧贴锅底及锅壁。采用真空吸料,特别对粉体物料利用真空吸入避免粉尘飞扬。整个工序在真空条件下进行,防止物料在高速搅拌后产生气泡,能达到卫生无菌要求。本系统配有CIP清洗装置、容器与物料接触部分采用SUS316L材料制造、内表面镜面抛光300EMSH(卫生级)为了确保控制部分的稳定、按纽采用日本富士公司产品、变频器采用日本松下电工、电器控制部分采用西门子公司产品。本机组完全符合GMP要求制造,是目前国内最先进、最理想的膏、霜生产设备。

型号有效容量乳化马达搅拌马达外型尺寸总功率


KWr/minKWr/min全高
TFZRJ-20202.20-35000.370-401800160018502700 5
TFZRJ-505030-35000.750-40270020002015

2700

7
TFZRJ-10010030-35001.50-40292021202200300010
TFZRJ-15015040-35001.50-40311021202200310011
TFZRJ-2002005.5 0-35001.50-40315022002200310012
TFZRJ-3503507.5 0-35002.20-403650

2650

2550360017
TFZRJ-5005007.5 0-35002.20-40397028002700395019
TFZRJ-750750 110-350040-40378032003050438024
TFZRJ-10001000150-350040-40390034003150455029
TFZRJ-15001500 18.5 0-3500 7.5 0-40 4000 4100 3750565042
TFZRJ-20002000220-35007.50-40485043003600不带升降46


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